第452章鹊桥

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    实时动态补偿？
    梁孟松当然知道这个解决方案。
    类似的方案在半导体领域就有应用。
    “我们已经安装了大量的传感器，但它们只是在记录温度和振动。
    我要你重新编写算法，让它们成为预测和修正的神经系统。
    将光刻机的关键参数与环境传感器数据直接挂钩。
    基于过去数千小时的良率数据，建立一个预测模型，在环境变化尚未对光刻胶产生影响之前，模型就提前预测出焦点将要发生的漂移量。
    最后利用CG-1内部自带的高速微致动器，在微秒级别内，动态微调透镜组的位置，以抵消环境变化带来的光学失真。
    这就像一个外科医生在抖动的手术台上，依靠神经反射保持手部稳定。
    这样一来，光刻机就不再追求静止的完美，而是追求动态中的完美。
    环境越不稳定，我们的补偿系统就越有价值。”
    林燃停顿片刻后说道：
    “这套动态系统一旦成熟，不仅能够激活4nm的潜力，解决你现在所面临的问题，而且能够把我们7nm产线的良率再往上推一大截，和台积电7nm制程的良率达到一致。”
    梁孟松听完，他立刻明白了林燃的意图：不是去战胜自然法则，而是去适应它，并利用数据和算法来驾驭它。
    “动态补偿……”梁孟松喃喃自语，眼中精光闪烁，“用软件和算法去弥补硬件上的不足。用我们最擅长的信息技术去解决他们引以为傲的精密光学问题。”
    他脸上兴奋的表情只出现了很短暂的时间。
    很快表情就转变成工匠的严谨和质疑。
    浸淫半导体行业数十年，梁孟松当然知道“实时动态补偿”的概念，但他更清楚，将这项技术应用于CG-1这类光刻机上的难度，简直是几何级数的提升。
    “林总，动态补偿从理论上而言当然可行，但我们都很清楚，您也亲自参与过我们生产线的构建，您很清楚理论上可行和实际工程上落地之间的差距。
    很多时候他们之间很可能横亘着马里亚纳海沟。”梁孟松的语气变得急切，他必须让林燃明白其中的巨大工程鸿沟。
    “在实际的工业中，动态补偿在半导体领域也有应用，但那些场景的时间常数和运动幅度，与光刻机核心曝光的场景完全不同。”
    “最常见的应用之一是CMP，也就是我们俗称的化学机械平坦化。
    在CMP设备中，我们使用实时监测来调整研磨力的压力分布，以补偿晶圆在研磨过程中厚度的不均匀性。
    这个过程是低速的，调整频率可能在秒级甚至分钟级。
    设备有足够的时间去采集数据、计算修正量，然后执行。
    另一个我能立刻想到的应用场景是等离子刻蚀。
    我们会在刻蚀腔内用光谱仪实时监测等离子体的状态，然后微调气体流量或射频功率，以补偿刻蚀速率的漂移。
    这个反馈频率可能达到毫秒级，但它修正的是化学环境，不是直接修正光学焦距。”
    梁孟松用手指指了指仿佛存在办公室空气中的CG-1光刻机：“但现在我们面对的是什么？是CG-1的超构透镜。
    这套系统对温度和振动的敏感度极高，一个微小的气流变化，都会在微秒级的时间内导致几纳米到几十纳米的焦点漂移。
    我们的动态补偿系统，必须在微秒级内完成：数据采集到预测模型计算再到微致动器物理移动的全过程。
    这要求致动器本身具有超低延迟、超高精度的响应能力。
    传统半导体设备上的致动器，根本达不到这个速度和精度要求。
    这其中不仅仅需要算法上的革新，同样需要设备层面的革新。”
    梁孟松语速很快，话题跳跃的同样很快，聪明人之间的交流就是要更轻松。
    梁孟松最后的话语带着强烈的工程警告意味：“CG-1的超构透镜的物理特性，意味着它的补偿路径，比传统光刻机更复杂、更非线性。
    这套系统是人类在DUV上的极限尝试，它的不稳定性是内生性的，而不是简单的外在干扰。
    我们等于是要制造一个能预知自己‘失衡’，并在失衡发生前就完成‘平衡’的超级复杂系统！”
    他看向林燃，总结道：“林总，从难度上来说，这件事的难度甚至要比我们过去从零开始EDA软件还要难得多。
    这个鸿沟，远远不是CMP或刻蚀那种级别的动态修正可以相比的。”
    林燃点了点头：“当然，我当然知道，你知道的，我同样知道。
    想要独立于整个西方世界做出一整套的半导体生产制造体系，这本身就是在做一件不可能完成的事情。
    这当然很难，可问题是，这是我们现在能迅速达到5nm最可能的路径。
    从五十年

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